日本AMAYA天谷制作所株式會社12英寸連續(xù)常壓CVD設備
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日本AMAYA天谷制作所株式會社12英寸連續(xù)常壓CVD設備
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簡單介紹
日本AMAYA天谷制作所株式會社12英寸連續(xù)常壓CVD設備12英寸連續(xù)常壓CVD設備AMAX120012 英寸 每小時 51 張的吞吐量采用SiC托盤防止重金屬污染的對策特征這是傳統(tǒng)AMAX系列中直徑*大的12英寸晶圓加工設備。SiH63、PH4、B3H2和O6混合后，從優(yōu)化的A2型分散頭進行表面反應，在低溫和低壓下更有效地產生熱化學反應。 可以獲得優(yōu)異的膜厚均勻性和雜質濃度均勻性。使用SiC托盤
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日本AMAYA天谷制作所株式會社
12英寸連續(xù)常壓CVD設備
12英寸連續(xù)常壓CVD設備
AMAX1200
12 英寸 每小時 51 張的吞吐量
采用SiC托盤防止重金屬污染的對策
特征
這是傳統(tǒng)AMAX系列中直徑*大的12英寸晶圓加工設備。
SiH63、PH4、B3H2和O6混合后，從優(yōu)化的A2型分散頭進行表面反應，在低溫和低壓下更有效地產生熱化學反應。 可以獲得優(yōu)異的膜厚均勻性和雜質濃度均勻性。
使用SiC托盤很難發(fā)生重金屬污染。 此外，可以獲得穩(wěn)定的工藝性能，而由于熱引起的老化很小。
標配自動托盤更換功能，實現(xiàn)工人**，縮短維護時間。 此外，自動抬起頭部底座的機構便于清潔。
性能
| 均勻的薄膜厚度 | ≦±3.0% |
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| 支持的晶圓尺寸 | 12寸 |
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| 氣體種類 | SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2 |
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| 薄膜沉積溫度 | ~450°C |
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| 生產力 | 51張/小時FOUP兼容標準機 |
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主要規(guī)格
| 設備尺寸 | 2165毫米（寬） x 4788毫米（深） x 2250毫米（高） |
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| 加熱機構 | 電阻加熱 |
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| 裝載卸載 | 機器人 CtoC 運輸 |
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| 分散頭（氣體噴嘴） | A63 頭（標準 3 頭） |
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