日本AMAYA天谷制作所株式會(huì)社晶圓常壓CVD設(shè)備A6300S
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日本AMAYA天谷制作所株式會(huì)社晶圓常壓CVD設(shè)備A6300S
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日本AMAYA天谷制作所株式會(huì)社量產(chǎn)6英寸以下小直徑晶圓的常壓CVD設(shè)備A6300S量產(chǎn)6英寸以下小直徑晶圓的常壓CVD設(shè)備A6300S6 英寸 吞吐量為每小時(shí) 120 張采用SiC托盤防止重金屬污染的對(duì)策特征這是一種連續(xù)常壓CVD系統(tǒng)，可滿足小直徑晶圓批量生產(chǎn)設(shè)備的需求，實(shí)現(xiàn)每小時(shí)120片晶圓的吞吐量。該設(shè)備通過運(yùn)輸系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)，該系統(tǒng)*大限度地減少了為實(shí)現(xiàn)各種薄膜沉積區(qū)域而開發(fā)的分散頭和托
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日本AMAYA天谷制作所株式會(huì)社
量產(chǎn)6英寸以下小直徑晶圓的常壓CVD設(shè)備A6300S
量產(chǎn)6英寸以下小直徑晶圓的常壓CVD設(shè)備
A6300S
6 英寸 吞吐量為每小時(shí) 120 張
采用SiC托盤防止重金屬污染的對(duì)策
特征
這是一種連續(xù)常壓CVD系統(tǒng)，可滿足小直徑晶圓批量生產(chǎn)設(shè)備的需求，實(shí)現(xiàn)每小時(shí)120片晶圓的吞吐量。
該設(shè)備通過運(yùn)輸系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)，該系統(tǒng)*大限度地減少了為實(shí)現(xiàn)各種薄膜沉積區(qū)域而開發(fā)的分散頭和托盤的數(shù)量，并降低了成本。
使用SiC托盤很難發(fā)生重金屬污染。 此外，可以獲得穩(wěn)定的工藝性能，而由于熱引起的老化很小。
標(biāo)配自動(dòng)托盤更換功能，實(shí)現(xiàn)工人**，縮短維護(hù)時(shí)間。 此外，自動(dòng)抬起頭部底座的機(jī)構(gòu)便于清潔。
性能
| 均勻的薄膜厚度 | ≦±4.0% |
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| 支持的晶圓尺寸 | ≦6英寸 |
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| 氣體種類 | SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2 |
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| 薄膜沉積溫度 | 350°C~450°C |
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| 生產(chǎn)力 | 120 頁(yè)/小時(shí) |
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主要規(guī)格
| 設(shè)備尺寸 | 1500毫米（寬） x 2850毫米（深） x 2000毫米（高） |
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| 加熱機(jī)構(gòu) | 電阻加熱 |
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| 裝載卸載 | 機(jī)器人 CtoC 運(yùn)輸 |
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| 分散頭（氣體噴嘴） | A63 頭（標(biāo)準(zhǔn) 2 頭） |
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