日本AMAYA株式會(huì)社天谷制作旋轉(zhuǎn)式清洗設(shè)備
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日本AMAYA株式會(huì)社天谷制作旋轉(zhuǎn)式清洗設(shè)備
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日本AMAYA株式會(huì)社天谷制作高清光掩模兼容的旋轉(zhuǎn)式清洗設(shè)備伍爾夫系列與高清光掩模兼容的旋轉(zhuǎn)式清洗設(shè)備伍爾夫系列清潔溶液高速擴(kuò)散到清潔表面快速消除異物和反應(yīng)產(chǎn)物無水痕干燥特征隨著LSI變得越來越復(fù)雜，光掩模/光罩需要更高的清晰度和準(zhǔn)確性。 我們的清洗設(shè)備有助于這些產(chǎn)品的高清潔度和產(chǎn)量提高，并合作生產(chǎn)更完整的產(chǎn)品。配備使用功能水的旋轉(zhuǎn)清洗單元，該單元可以通過工件旋轉(zhuǎn)的離心力、臭氧水和添加氨的氫水排放
日本AMAYA株式會(huì)社天谷制作旋轉(zhuǎn)式清洗設(shè)備 的詳細(xì)介紹
日本AMAYA株式會(huì)社天谷制作
高清光掩模兼容的旋轉(zhuǎn)式清洗設(shè)備伍爾夫系列
與高清光掩模兼容的旋轉(zhuǎn)式清洗設(shè)備
伍爾夫系列
清潔溶液高速擴(kuò)散到清潔表面
快速消除異物和反應(yīng)產(chǎn)物
無水痕干燥
特征
隨著LSI變得越來越復(fù)雜，光掩模/光罩需要更高的清晰度和準(zhǔn)確性。 我們的清洗設(shè)備有助于這些產(chǎn)品的高清潔度和產(chǎn)量提高，并合作生產(chǎn)更完整的產(chǎn)品。
配備使用功能水的旋轉(zhuǎn)清洗單元，該單元可以通過工件旋轉(zhuǎn)的離心力、臭氧水和添加氨的氫水排放去除有機(jī)物、金屬離子和異物，直至檢測(cè)極限水平。 通過切換和清潔每個(gè)清潔溶液，可以高速去除工件上的不純沉積物，廢液管理也是一種**的環(huán)境響應(yīng)工具。
采用
替代RCA清洗液的清洗液和清洗方法 SPM→臭氧水 ?實(shí)現(xiàn)完整的室溫清洗（無需高溫工藝） ?減少口罩
上化學(xué)溶液的殘留量
?更**的廢液處理（ISO14000措施）
SC-1 → 氫水加氨
?MoSi半色調(diào)掩膜的蝕刻預(yù)防
性能
| PSM *終清潔（無 SPM） |
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| 類別 | 不。 | 項(xiàng)目 | 規(guī)范 |
|---|
| 空白 | 1 | 無顆粒 | >32納米 |
| 2 | 預(yù)置% | ≧95% |
圖像層
（圖案?jìng)?cè)） | 3 | QZ 上的剩余軟缺陷 | ≧0.05微米 （產(chǎn)率 ： 98%） |
| 4 | 移位器上剩余的軟缺陷 | ≧0.05微米， ≦10個(gè) （產(chǎn)率 ： 98%） |
| 5 | SRAF（深色）缺失 | 沒有遺漏 |
| 6 | 圖案損壞、靜電放電、劃痕 | 無損壞 |
| 7 | 換檔器變化（相位） | ≦-0.2 度，平均清潔 10 倍 |
| 8 | 換檔器（變速器） | ≦0.025%，平均清潔 10 倍 |
| 9 | 換檔器（CD 平均值） | ≦0.15nm，平均清潔度為10倍 |
| 10 | 換檔器（CD 范圍） | ≦0.5nm，平均清潔度為10倍 |
| 離子殘基 | 11 | 化學(xué)殘留物 （SO4） | ≦0.5 ppb |
| 12 | 化學(xué)殘留物（NH4） | ≦17.0 ppb |
原理圖規(guī)格
大小
| 清洗裝置本體 | 7300毫米（寬） x 1410毫米（深） x 2300毫米（高） |
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| 電源箱 | 1400毫米（寬） x 500毫米（深） x 2150毫米（高） |
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| 化學(xué)溶液盒 | 2500毫米（寬） x 700毫米（深） x 2000毫米（高） |
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| 過濾器框 | 2600毫米（寬） x 700毫米（深） x 2000毫米（高） |
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| 熱滴機(jī)組 | 1250毫米（寬） x 550毫米（深） x 1750毫米（高） |
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| 氫水和碳酸水裝置 | 1050毫米（寬） x 1500毫米（深） x 2000毫米（高） |
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| 臭氧水機(jī)組 | 570毫米（寬） x 850毫米（深） x 2000毫米（高） |
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| 效用 | ?三相200V、?單相100V、?DIW、?冷卻水、?清潔干燥空氣、?氮?dú)狻?一般排氣、?酸性排氣、?堿性排氣 |
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