ADEV介紹HG/T 4376—2012 化工用在線激光微量水分析儀標(biāo)準(zhǔn)
HG/T 4376—2012 化工用在線激光微量水分析儀
Online Laser Trace Moisture Analyzer for Chemical Industry
實施日期：2013-03-01
發(fā)布日期：2012-11-07
發(fā)布單位：中華人民共和國工業(yè)和信息化部
前 言
本標(biāo)準(zhǔn)按照GB/T 1.1給出的規(guī)則起草，旨在為化工用在線激光微量水分析儀的設(shè)計、生產(chǎn)和使用提供統(tǒng)一的技術(shù)要求和規(guī)范。本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A為資料性附錄，僅供參考。標(biāo)準(zhǔn)的制定得到了中國石油和化學(xué)工業(yè)聯(lián)合會的提出，并由化學(xué)工業(yè)專用儀器儀表標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口管理。聚光科技（杭州）股份有限公司、天華化工機(jī)械及自動化研究設(shè)計院等單位參與了本標(biāo)準(zhǔn)的起草工作。主要起草人包括黃偉、俞大海、顧海濤、王森、王欣媛、曾文秀等。
一、范圍ADEV介紹HG/T 4376—2012 化工用在線激光微量水分析儀標(biāo)準(zhǔn)
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了化工用在線激光微量水分析儀的術(shù)語和定義、要求、試驗條件、試驗方法、檢驗規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運輸和貯存等方面的內(nèi)容。它適用于使用可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)測量氣體中微量水濃度的在線激光微量水分析儀。
二、規(guī)范性引用文件
以下文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的。對于注日期的引用文件，僅所注日期的版本適用于本文件。對于不注日期的引用文件，其*新版本（包括所有的修改單）適用于本文件。這些文件包括但不限于：
GB3836.1 爆炸性環(huán)境 第1部分：設(shè)備通用要求
GB3836.2 爆炸性環(huán)境 第2部分：由隔爆外殼“d”保護(hù)的設(shè)備
GB3836.5 爆炸性環(huán)境用防爆電氣設(shè)備 第5部分：正壓外殼型“p”
GB4793.1-2007 測量、控制和實驗室用電氣設(shè)備的**要求 第1部分：通用要求
GB7247.1 激光產(chǎn)品的** 第1部分：設(shè)備分類、要求和用戶指南
GB/T 11606 分析儀器環(huán)境試驗方法ADEV介紹HG/T 4376—2012 化工用在線激光微量水分析儀標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 13384 機(jī)電產(chǎn)品包裝通用技術(shù)條件
GB/T 17626.2 電磁兼容試驗和測量技術(shù) 靜電放電抗擾度試驗
GB/T 17626.3 電磁兼容 試驗和測量技術(shù) 射頻電磁場輻射抗擾度試驗
GB/T 17626.4 電磁兼容 試驗和測量技術(shù) 電快速瞬變脈沖群抗擾度試驗
GB/T 17626.5 電磁兼容 試驗和測量技術(shù) 浪涌（沖擊）抗擾度試驗
GB/T 18268.1 測量、控制和實驗室用的電設(shè)備電磁兼容性要求 第1部分：通用要求
GB/T 18403.1 氣體分析器性能表示 第1部分：總則
GB/T 25476 6 可調(diào)諧激光氣體分析儀
GJB/T 150.9 **設(shè)備環(huán)境試驗方法 濕熱試驗
GJB/T 150.10 **設(shè)備環(huán)境試驗方法 霉菌試驗
GJB/T 150.11 **設(shè)備環(huán)境試驗方法 鹽霧試驗
三、術(shù)語和定義
除了GB/T 18403.1定義的術(shù)語外，下列術(shù)語和定義適用于本文件：
3.1 微量水濃度（moisture concentration）
氣體中微量水分所占摩爾百萬分比，其濃度范圍一般小于1000 μmol/mol。
3.2 在線激光微量水分析儀（online laser trace moisture analyzer）
直接與工藝介質(zhì)相連，連續(xù)取樣并自動分析的采用可調(diào)諧激光吸收光譜測量技術(shù)的微量水分分析儀器。
四、要求ADEV介紹HG/T 4376—2012 化工用在線激光微量水分析儀標(biāo)準(zhǔn)
4.1 工作條件
儀器在表1規(guī)定的工作條件下應(yīng)能正常工作。
表1 工作條件
|
序號
|
影響因素
|
單位
|
正常工作條件
|
|
1
|
環(huán)境溫度
|
℃
|
5~40
|
|
2
|
相對濕度
|
%
|
≤90
|
|
3
|
大氣壓力
|
kPa
|
70.0~106.0
|
|
4
|
陽光輻射
|
-
|
無直接照射
|
|
5
|
空氣流速
|
m/s
|
0~0.5
|
|
6
|
外界電場、磁場、電磁場
|
-
|
按制造商規(guī)定
|
|
7
|
工作位置
|
-
|
通風(fēng)
|
|
8
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機(jī)械振動
|
-
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按制造商規(guī)定
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9
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有害性氣體
|
-
|
按
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