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鍍鉻工藝與ADEV氧分析儀的應(yīng)用|埃登威自動化系統(tǒng)設(shè)備（上海）有限公司

鍍鉻工藝與ADEV氧分析儀的應(yīng)用

鍍鉻工藝，作為電鍍領(lǐng)域中的一種復(fù)雜鍍種，具有其獨(dú)特的特點(diǎn)和挑戰(zhàn)。了解其工藝特點(diǎn)并應(yīng)用先進(jìn)的分析儀器如ADEV氧分析儀，對于提高鍍鉻質(zhì)量、優(yōu)化生產(chǎn)過程具有重要意義。

鍍鉻工藝的特點(diǎn)：鍍鉻工藝與ADEV氧分析儀的應(yīng)用

鉻的鈍化與復(fù)雜反應(yīng)：鉻容易鈍化，在多數(shù)介質(zhì)中穩(wěn)定。但其電鍍過程相對復(fù)雜，涉及金屬鉻的沉積、三價鉻的生成以及氫氣的還原。這導(dǎo)致陰極電流效率特別低，約為10-18%。
采用鉻酐而非鉻鹽：鍍鉻溶液使用具有強(qiáng)氧化性的鉻酐，需要添加局外離子以實(shí)現(xiàn)鉻的沉積。這一過程陰極極化復(fù)雜，同時發(fā)生多種反應(yīng)。
高電流密度與槽電壓：與其他鍍種相比，鍍鉻采用的電流密度高幾十倍，槽電壓也常保持在12V左右，高于一般的6V。
使用不溶性陽極：由于金屬鉻的脆性和難以控制溶解時的溶液變化，通常采用鉛+銻或鉛+錫合金作為不溶性陽極。鍍鉻工藝與ADEV氧分析儀的應(yīng)用
對電鍍條件的嚴(yán)格要求：鍍鉻過程中不允許中途停電，溫度和電流必須穩(wěn)定。不同大小和形狀的零件也需要不同的掛具和電鍍條件。
鍍層的特性：鉻鍍層在0.25μm時是微孔性的，超過此厚度則可能出現(xiàn)網(wǎng)狀裂紋。只有當(dāng)厚度超過20μm時，才對基體產(chǎn)生機(jī)械保護(hù)作用。

ADEV氧分析儀在鍍鉻工藝中的應(yīng)用：

考慮到鍍鉻工藝的復(fù)雜性和對氧氣含量的敏感性，ADEV氧分析儀的應(yīng)用顯得尤為重要。它能夠?qū)崟r監(jiān)測鍍鉻溶液中的氧氣含量，為操作者提供準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)，確保鍍鉻過程的穩(wěn)定性和鍍層的質(zhì)量。通過及時調(diào)整工藝參數(shù)，可以避免由于氧氣含量不當(dāng)導(dǎo)致的鍍層質(zhì)量問題。鍍鉻工藝與ADEV氧分析儀的應(yīng)用

此外，ADEV氧分析儀的**測量還可以幫助企業(yè)優(yōu)化鍍鉻工藝，降低生產(chǎn)成本并提高產(chǎn)品合格率，從而為企業(yè)創(chuàng)造更大的經(jīng)濟(jì)效益。

綜上所述，鍍鉻工藝雖然復(fù)雜，但通過應(yīng)用ADEV氧分析儀等先進(jìn)設(shè)備，并結(jié)合操作人員的專業(yè)知識與經(jīng)驗(yàn)，完全可以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、高效率的鍍鉻生產(chǎn)。

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